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精密熱風循環烘箱在光刻過程中的應用

時間:2015-10-30 14:47:42 瀏覽量:

   小型烘箱的用途很廣,在很多的實驗中也都有用到,今天就講一講小型烘箱在光刻過程中的應用!

  1、涂層光刻膠

  在硅晶片表面的涂層中,將粘合劑或硅晶片放置在惰性氣體中進行熱處理。這個過程是為了增加光致抗蝕劑和硅晶片之間的粘附力,防止開發的時間和防止腐蝕的濕過程。

  使用膠的抗蝕劑。首先,用真空法把硅天花板在甩膠機上抽油,會有一定的粘性光致抗蝕劑的表面上的鬼,然后時間來設置的速度和旋轉涂層。由于離心力,光致抗蝕劑的表面被均勻地分散,并除去多余的光致抗蝕劑,并獲得了一定厚度的光刻膠膜。抗蝕劑的厚度控制的抗蝕劑的粘度和橡膠的速度!

  2、預干燥

  由于溶劑的抗蝕劑,在80攝氏度的硅晶片,涂有抗蝕劑是干的。微波爐是一種惰性氣體,和干燥時間通常是15-30分鐘從光刻膠去除劑。

  3、掩模對準

  由于集成電路制造的過程是一個逐層處理的過程,每個層的位置不能被移位,使掩模板和晶片可以在晶片上對準。

  4、曝光

  高壓汞燈g線(436nm)或我行(波長365nm)照射在感光膠在硅片上的掩模,使光刻膠是從相同的光敏圖案作為掩模圖形得到!

  5、發展

  在將硅晶片暴露于特定的顯影液中浸泡后,將所暴露的部分溶解,然后將圖像復制到光致抗蝕劑上,顯影液對顯影液進行顯影液!

  6、干燥后

  為了完全蒸發的殘余的有機溶液中的光致抗蝕劑,提高粘接性能和抗腐蝕性能,硅晶片被放置在一個小爐120-200攝氏度,和硅晶片放置在溫度為120度到200度的干燥20-30分鐘。

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